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[发明专利]基板支撑组件-CN201710946426.X有效
发明人： P·K·库尔施拉希萨;K·D·李;金柏涵;Z·J·叶;S·P·贝赫拉;G·巴拉苏布拉马尼恩;J·C·罗查-阿尔瓦雷斯;J·J·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-07-07 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板支撑组件。所公开的技术用于在处理腔室中提高击穿电压、同时在超过约300摄氏度的温度下大幅减少静电夹盘的电压泄漏的方法和设备。
支撑组件

[实用新型]基板支撑组件-CN201820739096.7有效
发明人： M·T·萨米尔;D·杨;D·卢伯米尔斯基;P·希尔曼;S·帕克;M·Y·崔;L·朱 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-17 - 公布日： 2019-08-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开了基板支撑组件。示例性支撑组件可包括顶部圆盘和与顶部圆盘耦合的背托板。支撑组件可包括与背托板耦合的冷却板。支撑组件可包括耦合在冷却板和背托板之间的加热器。支撑组件还可包括围绕背托板的外部与背托板耦合的背板。背板可至少部分地限定一容积，并且加热器和冷却板可被容纳在该容积内。
背托板支撑组件冷却板耦合的基板支撑组件加热器背板耦合容纳外部

[其他]基板支撑组件-CN200790000078.7有效
发明人：罗宾·L·泰内;约翰·M·怀特 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-07-23 - 公布日： 2010-04-07 - 主分类号： F25B29/00 文献下载
摘要：提供一种处理腔室及控制位于处理腔室内的基板支撑组件上的基板温度的方法。基板支撑组件包含一导热本体；一基板支撑表面，其位于导热本体的表面上，并适以支撑一大面积基板于其上；一或多个加热元件，其嵌入导热本体内；及二或多个冷却通道，其嵌入导热本体内以与一或多个加热元件共面。
支撑组件

[发明专利]基板支撑组件及基板处理装置-CN202111312361.6在审
发明人：李炫宗;丁青焕;南镐振;李忠显;权渔真 -专利权人：圆益IPS股份有限公司
申请日： 2021-11-08 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明的一实施例的基板支撑组件，包括：基座板，包括放置基板的至少一个基板放置部，并且形成有多条气体流动线路，所述多条气体流动线路用于向所述基板放置部供应漂浮气体、旋转气体及减速气体；至少一个环绕件，配置在所述至少一个基板放置部，并且上面放置所述基板，在背面形成旋转图案部，以用于从所述旋转气体及所述减速气体接收旋转力及制动力；其中，所述至少一个环绕件通过从所述至少一个基板放置部供应的漂浮气体在所述至少一个基板放置部漂浮，通过以正向旋转方向供应的所述旋转气体对于所述基座板进行相对旋转，以使所述基板自转，并且通过以逆向旋转方向供应的所述减速气体制动。
支撑组件处理装置

[实用新型]用于处理基板的基板支撑组件-CN201720958948.7有效
发明人： K·高希;M·G·库尔卡尼;S·巴录佳;P·P·贾;K·尼塔拉 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-11-04 - 公布日： 2018-09-28 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本文公开的实施方式总体提供一种用于处理基板的基板支撑组件。在一个实施方式中，所述基板支撑组件包括一个或多个升降杆，每个升降杆包括第一末端和第二末端，所述第二末端通过轴耦接至所述第一末端，所述第一末端具有平面的顶表面和扩口部分，所述扩口部分设置在所述平面的顶表面与所述轴之间；以及具有基板支撑表面的基板支撑件，所述基板支撑件包括多个通孔，其中所述多个通孔的尺寸被设定为允许所述升降杆穿过，并且每个孔具有外围内表面，所述外围内表面以一斜率设置以使得每个升降杆的所述扩口部分当与所述外围内表面接触时提供0.001密耳至21密耳的所述基板支撑表面与所述平面的顶表面之间的距离。
升降杆基板支撑组件顶表面内表面平面的扩口基板支撑表面基板支撑件处理基板外围通孔轴耦穿过

[发明专利]极端均匀加热基板支撑组件-CN201980030055.8在审
发明人： D·本杰明森;V·D·帕科;O·S·科拉西德达拉玛雅;K·H·弗劳德;J·王;M·T·萨米尔;D·卢博米尔斯基 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-05-03 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本文中所述的实施方式提供了一种实现跨工件表面的温度均匀性的基板支撑组件。在一个实施例中，提供了一种基板支撑组件，所述基板支撑组件包括主体。所述主体由陶瓷制作。所述主体具有工件支撑表面及安装表面。所述工件支撑表面及粘合吸盘主体表面具有小于10微米的平坦度。第一加热器被设置在底表面上在所述主体外部。粘合层被设置在所述第一加热器之上，其中所述粘合层是电绝缘的，且冷却基部具有由金属制作的主体。
极端均匀加热支撑组件

[发明专利]温度受控的基板支撑组件-CN202110815314.7在审
发明人： V·D·帕克;K·马赫拉切夫;M·小野;Z·郭 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-01-07 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本文所述的实现方式提供了像素化基板支撑组件，所述像素化基板支撑组件允许对静电夹盘与加热组件之间热传递的侧向调谐和方位角调谐两者。像素化基板支撑组件包括：上表面和下表面；设置在像素化基板支撑件中的一个或更多个主电阻式加热器；以及多个像素加热器，所述多个像素加热器与主电阻式加热器同列，并且设置在基板支撑件中。
温度受控支撑组件

[发明专利]温度受控的基板支撑组件-CN202110820802.7在审
发明人： V·D·帕克;K·马赫拉切夫;M·小野;Z·郭 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-01-07 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本文所述的实现方式提供了像素化基板支撑组件，所述像素化基板支撑组件允许对静电夹盘与加热组件之间热传递的侧向调谐和方位角调谐两者。像素化基板支撑组件包括：上表面和下表面；设置在像素化基板支撑件中的一个或更多个主电阻式加热器；以及多个像素加热器，所述多个像素加热器与主电阻式加热器同列，并且设置在基板支撑件中。
温度受控支撑组件

[发明专利]基板支撑组件及导热基底-CN201710741989.5有效
发明人： V·D·帕科;K·马赫拉切夫;J·德拉罗萨;H·诺巴卡施;B·L·梅斯;小道格拉斯·A·布齐伯格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-05-06 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板支撑组件及导热基底。基板支撑组件包括陶瓷定位盘与导热基底，该导热基底具有与陶瓷定位盘的下表面接合的上表面。
支撑组件导热基底

[发明专利]基板支撑组件以及用于处理基板的设备-CN201911120497.X在审
发明人： A·恩古耶;Y·萨罗德维舍瓦纳斯;T·K·赵 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-01-08 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本文描述基板支撑组件以及用于处理基板的设备。本公开一般涉及用于处理腔室中的电场、气流及热分布中的对称性以实现处理均匀性的设备及方法。本公开的实施例包括等离子体处理腔室，该等离子体处理腔室具有沿着同一中心轴对准的等离子体源、基板支撑组件和真空泵，以在等离子体处理腔室中创建基本上对称的流动路径、电场及热分布，从而导致改善的处理均匀性和减少的偏斜
等离子体处理腔室基板支撑组件处理均匀性电场热分布等离子体源处理基板处理腔室流动路径同一中心真空泵轴对准偏斜对称创建

[发明专利]基板支撑组件及包括其的基板处理装置-CN202010516745.9在审
发明人：卢载旻;李主日;朴健溶 -专利权人： ASMIP私人控股有限公司
申请日： 2020-06-09 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：一种布置在室中的基板支撑组件包括：支撑板，包括基板安置在其上的第一表面；驱动器，配置成使支撑板倾斜，使得第一表面相对于基准表面倾斜下倾斜角度；以及控制器，配置成控制驱动器，使得基于由联接到室的上表面的气体供应器相对于基准表面的倾斜形成的上倾斜角度来调节下倾斜角度
支撑组件包括处理装置

[实用新型]带有加热器的基板支撑组件-CN201420117178.X有效
发明人：古田学;约翰·M·怀特;罗宾·L·蒂纳;苏海勒·安瓦尔;崔寿永 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-03-14 - 公布日： 2014-12-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及带有加热器的基板支撑组件。本实用新型的实施方式提供一种提供均匀的温度分布的基板加热器。在一个实施方式中，基板支撑组件包括基板支撑基座和加热组件，其中所述基板支撑基座具有基板支撑表面。所述加热组件设置在所述基板支撑基座中，紧邻所述基板支撑表面。所述加热组件被配置成用于在所述加热组件的拐角处提供均匀的热量分布。在另一实施方式中，基板支撑组件包括基板支撑基座和加热组件，其中所述基板支撑基座具有基板支撑表面。所述加热组件设置在所述基板支撑基座中，并且包括内部加热区域和外部加热区域。所述内部加热区域被设置成在所述加热组件的中心中并且从所述中心延伸出。所述外部加热区域环绕所述加热组件的边缘。
带有加热器支撑组件

[发明专利]用于高温工艺的基板支撑组件-CN202310767012.6在审
发明人： V·D·帕科 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-01-23 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种静电吸盘包含：陶瓷主体，具有顶部及底部；一或多个加热元件，设置于陶瓷主体中；以及一或多个电极，设置于陶瓷主体中。所述静电吸盘进一步包含多个物件，该多个物件通过金属接合物接合至陶瓷主体的底部，其中多个物件全体包含多个特征，该多个特征分布在陶瓷主体的底部上从由陶瓷主体的底部限定的圆的中心开始的多个不同距离处，且其中该多个特征中的特征容置紧固件。
用于高温工艺支撑组件

[发明专利]用于高温工艺的基板支撑组件-CN201780014952.0有效
发明人： V·D·帕科 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-01-23 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：一种静电吸盘包含：陶瓷主体，具有顶部及底部；一或多个加热元件，设置于陶瓷主体中；以及一或多个电极，设置于陶瓷主体中。所述静电吸盘进一步包含多个物件，该多个物件通过金属接合物接合至陶瓷主体的底部，其中多个物件全体包含多个特征，该多个特征分布在陶瓷主体的底部上从由陶瓷主体的底部限定的圆的中心开始的多个不同距离处，且其中该多个特征中的特征容置紧固件。
用于高温工艺支撑组件

[实用新型]基板支撑组件和处理腔室-CN201921006040.1有效
发明人：麦特斯·拉尔森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2020-03-03 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本文所述的实施方式一般涉及基板支撑组件和处理腔室。在一个实施方式中，一种基板支撑组件包括：基部；以及ESC，所述ESC具有设置在所述基部之上的多个二极管。
支撑组件处理

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